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如何使用植物冠層分析儀測量葉面積指數(shù)?
點擊次數(shù):1592 更新時間:2021-10-14
葉面積指數(shù)是果樹冠層生物學(xué)特征的一個重要參數(shù),它可以影響果園的產(chǎn)量、品質(zhì)以及光能的截獲,在一定程度上決定了果園的生產(chǎn)效率。測量葉面積指數(shù)的方法有直接測量法和間接測量法,直接測量法具有破壞性,且費時費力、不能重復(fù),操作困難難以測量葉面積的動態(tài)變化等。間接測量法分為相對生長法和光學(xué)法,應(yīng)用比較廣泛。
植物冠層分析儀就是屬于光學(xué)法的,特點是攜帶方便,不需要進(jìn)行額外的資料處理,可以直接給出葉面積指數(shù)值,原理是在假定植物冠層內(nèi)的各元素隨機分布,依據(jù)冠層間隙度或光學(xué)特性反演葉面積指數(shù)。缺點是測量所得葉面積指數(shù)有著較大的偏差。葉片的聚集效應(yīng)越強,偏差越大。因此在測量時,一般需要用直接法校正。
測量時根據(jù)果園的大小。分別設(shè)置3-5個測量點,在每個測量點再分別用方框取樣法和冠層分析法測量葉面積指數(shù)。方框取樣法是將方框隨機放在樹冠上,將方框內(nèi)的的葉片全部摘下,用葉面積儀測量框內(nèi)的葉面積,然后根據(jù)樹冠體積和栽植密度計算葉面積指數(shù)。測點的選擇與冠層分析儀方法相同。冠層分析儀是分別對應(yīng)測量天空5個范圍的散射輻射,這5個范圍的中心視天頂角分別為7°、23°、38°、53°和68°,分別與冠層上部和下部測量輻射通透密度,并根據(jù)轉(zhuǎn)換模型估算葉面積指數(shù)。在每一個測點的冠層頂部測一次,下部重復(fù)測量6-10次,冠層下方的測量在同一水平面上,且在無直接輻射的條件下進(jìn)行。為了避免光環(huán)境迅速的變化對測量結(jié)果的影響,較好選擇無直接輻射的條件下進(jìn)行,然后用冠層分析儀附帶的軟件對測量的資料進(jìn)一步加工以校正估值葉面積指數(shù)。